uv光氧催化设备：光氧催化工艺详解过程
uv光氧催化设备：光催化氧化技能是在光化学氧化技能的基础上发展起来的.光化学氧化技能是在可见光或紫外光作用下使有机污染物氧化降解的反响过程.但由于反响条件所限,光化学氧化降解往往不够彻底,易发生多种芳香族有机中间体,成为光化学氧化需求克服的问题,而经过和光催化氧化剂的结合,能够******进步光化学氧的功率.
依据光催化氧化剂使用的不同,能够分为均相光催化氧化和非均相光催化氧化.
均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2为介质,经过光助 - 芬顿反响发生羟基自由基使污染物得到降解.紫外光线能够进步氧化反响的作用,是一种有效的催化剂.紫外/臭氧(UV/03)组合是经过加快臭氧分解速率,进步羟基自由基的生成速度,并促使有机物形成很多活化分子,来进步难降解有机污染物的处理功率.
非均相光催化降解是使用光照射某些具有能带结构的半导体光催化剂如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等,可诱发发生羟基自由基.在水溶液中,水分子在半导体光催化剂的作用下,发生氧化能力极强的羟基自由基,能够氧化分解各种有机物.把这项技能使用于POPs的处理,能够取得杰出的作用,但是并不是一切的半导体资料都能够用作这项技能的催化剂,比方CdS是一种高活性的半导体光催化剂,但是它容易发生光阳极腐蚀,在实际处理技能中不太有用.而TiO2可使用的波长***可达387.5nm,价格便宜,多数条件下不溶解,耐光,无毒性,因此TiO2得到了广泛的使用.
