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等离子体废气处理工艺结构

来源:未知    作者: admin; 发布日期:2020-03-26 15:56

等离子体废气处理工艺结构
 
等离子体废气净化工艺又称低温等离子体废气净化器。整个过程系统主要分为***立和混合激励系统:微波激励区、等离子体激励区和平板激励区。这三个方面的职责有所不同,分工有所不同,但基本上原则是相近的。
 
 
微波激发区:
通常情况之下,一套等离子体废气处理工艺将有3-9个有所不同的微波激发区,根据处理之后废气的有所不同风量,微波激发区的数量会有所不同。微波本身有很低的频率,所以在纳秒的时间之内它将处理它所作用的区域。
 
等离子体激发区:
该区由40-240根充满***定气体的非极性管组成,也是低温等离子体废气处理工艺的核心技术。该工艺采用低压无极灯作为低温等离子体的激励源,对无极管区等离子体区的废气进行了较小程度的处理。
 
 
 
板励磁区:
板栋电压可分为12kV、16Kv和42KV。只要施加足够的电压,在引风机的作用之下,电极区将根据法拉***暗区理论、光呼唤理论、权利分离理论等,在***气压或***气压下实现低温等离子体的废气处理